低於約 1 × 10⁻⁹ mbar 之後,腔體內的殘餘氣體不再來自漏點,而是從內表面釋出。因此達到 UHV 首先是製造與表面處理的問題,其次才是抽氣問題,而這正是我們掌控的部分。
超高真空到底需要什麼
四件事同時到位:全金屬密封的腔體、已移除變形層的內表面、能驅離吸附水氣與氫的烘烤循環,以及能達到所需基礎壓力的抽氣系統。任何一項沒做到,腔體就會卡在高真空,其他三項再好也一樣。
表面就是問題的全部
水是新組裝腔體內的主要殘餘氣體。它從氧化層以及加工留下的變形金屬中脫附。電解拋光移除 20–40 µm,留下鉻富集、表面積更低的表面;接著以 250–400 °C 烘烤驅離剩下的部分。機械拋光與電解拋光的腔體,抽氣時間可以差一個數量級。
密封:為什麼彈性體不是選項
Viton 在約 150 °C 以上就會滲透與放氣,而這低於任何有用的烘烤溫度。因此 UHV 系統高真空側的每個接合處都必須是搭配銅墊圈的 ConFlat,讓密封為金屬並能承受烘烤。KF 只適合粗抽側,其他位置都不行。
材料
316L 是預設材料,因為它耐蝕且電解拋光後的行為穩定。導磁率必須維持低值時指定 316LN,例如靠近電子柱或磁透鏡處。鋁合金用於重量主導設計的極大型腔體,但它需要專屬的銲接與清洗路線,且在低壓端的放氣更難控制。
腔體之外的零組件
UHV 系統需要的不只是一個容器:CF 法蘭、觀視窗、饋通、波紋管、操作器,以及抽氣與錶頭接管,全部都採金屬密封,且都能烘烤到與腔體相同的溫度。把腔體與其接管在同一次裝夾中加工,可避免筒身完工後才配裝接管所產生的偏心。
廠內自製能力
- 304 / 316L stainless steel and 6061 / 5083 aluminium fabrication
- Clean-environment TIG welding with full penetration and no micro-porosity
- Helium mass-spectrometer leak testing to 1 × 10⁻⁹ mbar·l/s
- In-house electropolishing and passivation — not subcontracted
- Chamber bake-out to 150–400 °C for UHV outgassing control
- Precision-machined ISO-KF, ISO-K and CF (ConFlat) flanges
- Zeiss CMM verification to ±0.02 mm across large work envelopes
- 12 m gantry CNC machining — 12 m × 4 m × 2 m envelope
- SEMI-referenced documentation and inspection protocols
常見問題
什麼壓力才算超高真空?
約低於 1 × 10⁻⁹ mbar(大約 7.5 × 10⁻¹⁰ Torr)。高真空約在 1 × 10⁻⁷ mbar 結束;兩者之間還有一段彈性體密封仍可用、但腔體不改成全金屬密封加烘烤就降不下去的區域。
UHV 腔體為什麼要烘烤?
因為水與氫會從內表面脫附,而這個脫附正是把壓力撐住的原因。在持續抽氣下加熱到 250–400 °C 可將其驅離。不烘烤的話,每次腔體開放大氣,表面就會重新吸附水氣。
316LN 是什麼?什麼時候需要?
316LN 是低碳含氮、導磁率受控的不鏽鋼。當磁場會干擾製程或量測時就會指定,例如電子束柱周邊。
UHV 腔體可以銲接而不靠螺栓嗎?
可以,而且筒身採銲接結構是常態,因為銲道是永久金屬密封,沒有墊圈需要烘烤除氣。但這也意味著腔體無法拆解,設計必須在銲接前就定案 — 所以我們在銲接後、而不是銲接前加工密封面。
腔體抽到 UHV 要多久?
一個電解拋光與烘烤都做好的數十公升腔體,抽氣後通常一天內可達 10⁻⁹ mbar。表面被抹平又沒烘烤的腔體可能要花好幾週,甚至永遠到不了。
相關能力
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